Магнетронное осаждение

   Процесс магнетронного напыления позволяет осаждать пленки широкого спектра материалов с вариацией толщины от десятков нанометров до нескольких микрон. Осаждение с магнетронным распылением мишени является одним из стандартных вариантов PVD для микроэлектронных технологий. Позволяет получать слои широкого спектра материалов от металлов до диэлектриков с контролируемой стехиометрией. Система позволяет реализовать режимы распыления в постоянном (ПТ) и переменном токе (ВЧ), а также режим реактивного распыления.   
    
    Наша лаборатория создает покрытия с помощью установки магнетронного осаждения фирмы AJA (Оборудование инновационного научно-образовательного центра коллективного пользования "Космические технологии и образование"), позволяющей производить осаждение покрытий с одновременно до трех различных мишеней из пяти загруженных мишеней. Напыление может производиться как в режиме постоянного тока, так и в режиме переменного тока. Также имеется возможность производить осаждение покрытий при контролируемой температуре подложки (до 750С). Мы располагаем более чем двумя десятками различных мишеней из материалов особой чистоты.